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  • 1、 獨(dú)立基礎(chǔ)的單元時(shí)如何劃定的?如何定義? 2

    1、 獨(dú)立基礎(chǔ)的單元時(shí)如何劃定的?如何定義? 2、 獨(dú)立基礎(chǔ)是在獨(dú)立基礎(chǔ)套取構(gòu)件做法還是在獨(dú)立基礎(chǔ)單元? 3、 獨(dú)立基礎(chǔ)構(gòu)件的底標(biāo)高是如何確定的?
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    獨(dú)立基礎(chǔ)的單元按不同材質(zhì)分別劃定,從基礎(chǔ)層的上面開始,依次往下分,構(gòu)件做法在各單元中套取,在最下面的墊層構(gòu)件屬性定義中,要設(shè)定"墊層標(biāo)記"為 "是" 獨(dú)立基礎(chǔ)構(gòu)件的底標(biāo)高就是墊層的底標(biāo)高

    2008-07-21 09:49:29 

  • 1、獨(dú)立基礎(chǔ)的單元時(shí)如何劃定的?如何定義? 答:獨(dú)立基礎(chǔ)單元從上到下依次建立即可。新建獨(dú)立基礎(chǔ)后,把光標(biāo)放在新建獨(dú)立基礎(chǔ)上,點(diǎn)擊右鍵,新建獨(dú)立基礎(chǔ)單元。如果要在獨(dú)立基礎(chǔ)里一起處理獨(dú)立基礎(chǔ)墊層,那么把最底層的獨(dú)立基礎(chǔ)單元"墊層標(biāo)記"修改為“是”,輸入相應(yīng)的尺寸即可 獨(dú)立基礎(chǔ)是在獨(dú)立基礎(chǔ)套取構(gòu)件做法還是在獨(dú)立基礎(chǔ)單元? 答:在套取做法的時(shí)候是獨(dú)立基礎(chǔ)和獨(dú)立基礎(chǔ)單元都要套取做法。 獨(dú)立基礎(chǔ)構(gòu)件的底標(biāo)高是如何確定的? 答:獨(dú)立基礎(chǔ)單元的底標(biāo)高可在屬性里直接修改。

    2008-07-21 09:39:50 

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